EFP140 je tekutá fotocitlivá pájecí maska, která byla vytvořena pro použití ve výrobě ohebných a poloohebných DPS a BGA pouzder s použitím polyimidových substrátů.
Optimalizovaná charakteristika expozice dodává vysoké úrovně průchozího vytvrzování při nízkých úrovních energie, bez kompromisu v tvrdosti povrchu nebo chemické odolnosti.
Vynikající pružnost
Velmi jemné rozlišení (50 µm)
Odolnost k vícenásobnému pájení
Odolná k bezolovnatým, ENIG & Sn procesům
Vyhovuje RoHS a neobsahuje halogenové přísady
Verze vyhovující RoHS a plně REACH,bez TGIC nebo dalšího SVHC obsahu
Soubory ke stažení